Системы очистки и нанесения покрытия на графиты

Первая очистка партии выполняется при высокой температуре в вакууме. При этом происходит термическое удаление летучих компонентов. Дальнейшая обработка осуществляется галогенсодержащими газами, в результате чего в процессе в качестве эффективных реактивов доступны хлор и фтор. Максимальная температура процесса обычно составляет 2200 °C, в отдельных случаях – 2400 °C.

Такие экстремальные условия процесса требуют максимальных мер безопасности и точного знания свойств используемых материалов.

Применяемые материалы и компоненты подбирают с учетом реакционной среды таким образом, чтобы гарантировать максимальный срок службы установки.

Используемые технологические газы и продукты их реакций требуют последующей обработки выхлопных газов для соблюдения предельно допустимых значений согласно TA Luft или сопоставимым стандартам. Такая дополнительная обработка обычно осуществляется газоочистителем. Системы транспортировки, специально адаптированные к установкам, дополняют комплексное предложение.